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PCE-80是一款較大型的等離子清洗機(jī)，等離子腔體為 8.5 “dia x 12““L的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續(xù)可調(diào)節(jié)。此款設(shè)備主要是通過(guò)空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來(lái)去除基片上的氧化層和污染物，同時(shí)也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等）。對(duì)于基片的清洗以及薄膜處理此款設(shè)備是較為理想的實(shí)驗(yàn)幫手。

小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計(jì)算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù)，采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。工作時(shí)外接一臺(tái)真空泵，清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時(shí)間內(nèi)*清洗掉有機(jī)污染物，清洗程度可達(dá)到分子級(jí)。另外，其樣品臺(tái)可選配加熱功能，可加負(fù)偏壓，用以實(shí)現(xiàn)離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。

PCE-6小型等離子清洗機(jī)的等離子腔體為 Φ160mm×190mm的石英腔體，采用的射頻電源功率3.0MHz（1%），輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調(diào)。本機(jī)主要是通過(guò)空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來(lái)去除基片上的氧化層和污染物，同時(shí)也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等），對(duì)于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設(shè)備。

PDC-001是一款腔體尺寸較大的等離子清洗機(jī)，其等離子腔體尺寸為 6“dia x 6.5“。特別適合對(duì)有機(jī)物和基片表面進(jìn)行清洗，同時(shí)可以向腔體通入不同的氣體（如氧氣和惰性氣體等），從而產(chǎn)生不同氣氛的等離子體以滿足實(shí)驗(yàn)需要。在高射頻工作狀態(tài)下起表面臟物移出速率高達(dá)20nm/min.對(duì)于在薄膜生長(zhǎng)前對(duì)基片進(jìn)行預(yù)處理，此款設(shè)備極為理想。

GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺(tái)結(jié)合在一起的產(chǎn)品，有自動(dòng)控制的樣品臺(tái)，就可使等離子槍按設(shè)定程序?qū)悠繁砻孢M(jìn)行更均勻涂覆和處理，保證處理樣品表面的*性和均勻性。此系統(tǒng)是由RF發(fā)生器、氣體傳輸管、等離子槍頭和X-Y移動(dòng)的工作臺(tái)（帶有真空吸盤(pán)和控制盒）。此系統(tǒng)產(chǎn)生等離子束可在非真空和低溫狀態(tài)下活化和清洗樣品表面，可處理的樣品有單晶片，光學(xué)元件和塑料等，也可在常壓下進(jìn)行等離子

VGT-1620QTD 超聲波清洗器用于清洗眼鏡、珠寶首飾、鐘表等民用家居等領(lǐng)域，而且已拓展到機(jī)械、紡織、電子、化纖、石油化工、醫(yī)藥、大專院校、科研實(shí)驗(yàn)室、超硬材料及軍工等行業(yè)或部門(mén)，可以清理一般工具達(dá)不到的的地方，實(shí)現(xiàn)無(wú)損傷清洗，是科研生產(chǎn)人員的好助手。