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產品概述LVD-F1是一款適用于實驗室中CVD或DLCVD實驗的導入液體的一款經濟高效的液體蒸發輸送系統。其液體流量是通過一個數字液體泵來控制,最大流量為10ml/min。液體被蠕動泵導入到混氣系統后,被系統里的加熱裝置加熱成蒸汽,然后隨導入的氣體被帶入到爐管中。LVD-F1能夠導出多種液體,比如ETOH,SnCl4,TiCl4r,SiHCl3,和Zn(C2H5)2,還有多種有機物混合。對于研究用...
精密研磨拋光機對球形CeO2粉體的制備及其拋光性能的研究摘要:以硝酸鈰、尿素為原料,檸檬酸為表面活性劑,首先采用水熱法制備出球形CeCO3OH前驅體再經高溫焙燒得到球形CeO2粉體。利用XRD、FT-IR、SEM及拋光試驗對CeO2粉體性能進行表征,結果表明:以檸檬酸為表面活性劑,在180℃時水熱反應24h,再經800℃高溫焙燒,所制備的CeO2粉體呈球形,分散性好,粒度約為2μm,且粒度分布均勻,適合軟質玻璃的精密拋光。關鍵詞:CeO2粉體;水熱法;球形;拋光性能隨著高精密...
IMCS-2000-是一款精簡版高真空感應熔煉&鑄造爐,可熔煉各種合金,最大熔煉量可達1kg(按Fe密度算),最高熔煉溫度可以達到2000℃,配有二次加料機構,可在真空或氣氛保護環境下進行二次加料。安裝了高溫攪拌機構,可在真空或氣氛環境下對熔煉樣品進行高溫攪拌,使熔煉更加均勻。真空度可達10-6Torr(采用分子泵系統)。此款設備是一款價格低廉的金屬研究利器。產品特點·價格便宜,低成本可在保護氣氛下進行金屬熔煉和鑄造·最大熔煉量可達1kg(按Fe密度算)·帶有手動澆注功能,可...
基片清洗對旋轉涂膜的影響旋轉涂膜機,又稱勻膠機、甩膠機等,目前可應用的領域很廣主要涉及微加工、生物、材料、半導體、制版、新能源、薄膜、光學及表面涂覆等領域。旋轉涂膜機的基本原理是在高速旋轉的基片上,滴注各類膠體或溶液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,但涂后薄膜的質量除與膠體或溶液的粘稠度、膠液與基片間的粘滯系數、轉數、旋涂時間有關外,與基片清洗的質量也密切相關。本實驗主要研究在基片、溶液、旋涂參數相同的情況下基片的清洗對旋轉涂膜后的薄膜質量的影響。實驗材料:φ...
汽車門框密封條檢測樣品的切割選擇—金剛石線切割機汽車門框密封條是汽車密封條產品當中最重要的密封條之一,在整車密封質量評價當中占主導地位。汽車門框密封條的性能檢測,有時需要選取其橫截斷面薄片作為檢測樣品。例如,截面氣泡、麻點、脫層裂縫、涂層等檢測。汽車門框密封條主要由起安裝固定作用的裝卡部分和起密封作用的密封部分構成,主要原材料是三元乙丙橡膠(EPDM)。裝卡部分主要由密實膠基體組成,密實膠內含有金屬架,起加強膠條定型和固定作用,防止工作中脫開或脫落。密封部分由海綿膠泡管基體組...
金剛石線切割機、研磨拋光機對壓電陶瓷的切割、研磨、拋光工藝壓電效應某些材料在機械應力作用下,引起內部正負電荷中心相對位移而發生極化,導致材料兩端表面出現符號相反的束縛電荷的現象,稱為壓電效應。反之,當這類材料在外電場作用下,其內部正負電荷中心移位,又可導致材料發生機械變形,形變的大小與電場強度成正比。具有這種性能的陶瓷稱為壓電陶瓷,它的表面電荷的密度與所受的機械應力成正比。vv壓電陶瓷作為壓電陶瓷的原材料,在晶體結構上一定是不具有對稱中心的晶體,如氧化鉛、氧化鋯、氧化鈦、碳酸...
旋轉涂膜機在半導體光刻工藝中的應用半導體光刻工藝過程要在潔凈室中進行,且潔凈室的等級要達到半導體光刻工藝的要求。光刻的目的是將掩膜版的圖形轉移到光刻膠,再通過刻蝕將光刻膠的圖形轉移到硅片表面。光刻工藝的基本過程:涂膠:涂膠時選用沈陽科晶自動化設備有限公司制造的VTC-100PA-UV紫外光旋轉涂膜機將光刻膠均勻的涂在硅片表面,膜厚度與旋轉速度的平方根成反比。前烘:涂膜后使用HT-150型精密烤膠機對硅片進行前期烘烤,去除膠內的溶劑,從而提高膠體在硅片表面的粘附力,提高膠體薄膜...
鎳基高溫合金陶瓷涂層的制備及性能表征摘要:以Cr2O3粉、玻璃料及黏土為原料制成料漿,通過噴涂將其涂覆在鎳基高溫合金GH44的表面,采用熱化學反應法于1050℃保溫10min,熔燒制備出高溫陶瓷涂層。通過掃描電鏡和X射線衍射分析了高溫陶瓷涂層的表面和截面形貌以及相組成,對涂覆陶瓷層的鎳基合金的抗熱震性能、抗氧化性能以及高溫疲勞性能進行了測試。結果表明,陶瓷涂層結構致密,與基體結合牢固,具有良好的抗熱震性能。涂覆陶瓷層的鎳基合金其高溫抗氧化性相對于基體提高了6倍以上,其高溫疲勞...
用STX-100QX金剛石曲線切割機切割炭纖維復合材料及玻璃STX-100QX金剛石曲線切割機形貌如圖一所示:圖一金剛石曲線切割機形貌圖由科晶設計研發的金剛石曲線切割機,是我公司*使用金剛石線對非金屬及金屬材料進行曲線切割的設備。該設備可通過編程設置切割形狀,然后金剛石線按程序所設置的路徑行走,從而切割出各種不同的形狀。該設備有效解決了一些難加工材料曲線切割的難題,如陶瓷材料、晶體材料、紅外光學材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、熱電材料(如碲化鉍,碲化鉛、硅鍺合金等)、...
用自動研磨機研磨高分子復合材料實驗材料:12×12×19㎜的高分子復合材料試樣塊4塊,樣品尺寸如圖1所示;實驗目的:將高分子復合材料選取一組面(兩面相對)研磨并拋光。實驗設備:科晶制造的UNIPOL-802自動精密研磨拋光機、MTI-3040加熱平臺、VGT-1620QTD超聲波清洗機,實驗所用設備如圖2所示;實驗耗材:水磨砂紙、合成革拋光墊、金剛石噴霧拋光劑、石蠟,實驗所用耗材如圖3所示;實驗過程:要對樣品進行研磨首先要把樣品固定在研磨機專用載樣塊上,一般選用石蠟在載樣塊上...
檸檬酸對聚合物前驅體法制備WO3薄膜光電性質的影響摘要:以偏鎢酸銨為鎢源,檸檬酸為絡合劑,聚乙二醇(PEG)為聚合物合成前驅體溶膠,并用浸漬提拉法在FTO導電玻璃上制備了WO3薄膜,研究配位劑檸檬酸對聚合物前驅體法制備WO3薄膜結構和光電性質的影響。采用X線衍射、拉曼光譜和場發射掃描電鏡等手段研究薄膜的相組成及表面形貌,借助標準三電極體系進行了光電化學測試,并進一步討論了檸檬酸對WO3薄膜光電性能影響機理。結果表明:CA和W摩爾比為0,0.5,1.0和2.0條件下薄膜表面顆粒...
問題來源:球磨是大多高校科研院減少樣品粒徑的主流方式,但是球磨之后球與粉難于分離,且大多數粉末會產生團聚,分篩時難通過篩網的孔洞。為此科晶推出小型超聲分篩系統可很好的解決以上問題。解決辦法:用小型超聲篩分系統,在分篩過程中加入超聲震動。試驗案例:超聲波分篩機分篩球研磨粉末樣品試驗簡述:將球磨后的樣品放入分篩機中,配合不同目數分篩網,篩分樣品。第一步:分散樣品第二步:球與球之間碰撞,將粘在球上的粉料撞擊下來實驗結果如下:球磨后樣品分篩結果:分篩機篩網機構介紹應用技術總結:1.分...
1、真空鍍膜機PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫,中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。2、真空鍍膜機PVD鍍膜和PVD鍍膜機PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類,真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應于PVD技術的三個分類,相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來,真空離子鍍膜技術的發展是zui快的,它已經成為當今的表面處理方式...